HUAWEI presenta la Ley de Escala Tau (τ), que impulsa avances en la densidad de transistores y el rendimiento de los sistemas

[Shanghai, China, 25 de mayo de 2026] En el Simposio Internacional IEEE de Circuitos y Sistemas (ISCAS) 2026, He Tingbo de HUAWEI pronunció un discurso de apertura titulado "Un nuevo camino para los semiconductores en la práctica". En su discurso, presentó la Ley de Escala Tau (τ), un nuevo principio para guiar el desarrollo futuro de la industria de los semiconductores. Esta ley propone reemplazar el escalado geométrico por el escalado temporal (τ) como un nuevo principio rector para la evolución tanto de los semiconductores como de los sistemas electrónicos. Basándose en este principio, se pueden utilizar tecnologías innovadoras como LogicFolding para comprimir continuamente el retardo de propagación de la señal y mejorar progresivamente la densidad de transistores, lo que impulsará la evolución constante de los semiconductores y los sistemas electrónicos.

He Tingbo, de HUAWEI, pronunció un discurso de apertura titulado "Un nuevo camino para los semiconductores en la práctica"

En los últimos años, la Ley de Moore, que ha guiado a la industria de los semiconductores durante más de cinco décadas, se ha enfrentado a severas limitaciones físicas y a una disminución de la rentabilidad económica. La industria global se ha visto cada vez más limitada por la ralentización de la escala geométrica de los transistores y la erosión de la relación costo-beneficio por transistor. La industria debe ahora abordar el desafío urgente y común de superar las limitaciones físicas de los procesos tradicionales y encontrar una nueva vía de evolución sostenible que pueda satisfacer la creciente demanda de computación. Aquí es donde entra en juego la Ley de Escala τ.

Basándose en esta ley, HUAWEI ha desarrollado tecnologías centrales innovadoras como LogicFolding y ha establecido un mecanismo de co-optimización multinivel que abarca dispositivos semiconductores, circuitos, chips y sistemas. Este mecanismo tiene como objetivo acortar sistemáticamente la constante de tiempo τ para aumentar el rendimiento, la eficiencia energética y la densidad de transistores en cada nivel de las siguientes maneras:

• A nivel de dispositivo: Optimización de la resistencia y la capacitancia parásita de transistores e interconexiones para minimizar la constante de tiempo τ a nivel de dispositivo en la capa física subyacente.
• A nivel de circuito: Adopción de la arquitectura LogicFolding para romper las barreras físicas de los diseños de circuitos tradicionales, acortando significativamente el cableado de la ruta crítica, reduciendo eficazmente la carga resistiva y capacitiva de la propagación de la señal y, en última instancia, aumentando la densidad de transistores y el rendimiento del circuito.
• A nivel de chip: Empleo de un diseño coordinado de software full-stack, arquitectura y silicio para lograr un control preciso y basado en la carga de trabajo sobre los flujos de instrucciones y datos, mejorando el paralelismo y la eficiencia a nivel de sistema y reduciendo significativamente el tiempo de ejecución de extremo a extremo.
• A nivel de sistema: Redefinición de los protocolos de interconexión para sistemas informáticos con UnifiedBus para lograr un direccionamiento de memoria unificado y una semántica de memoria nativa para SuperPoDs, reduciendo significativamente la latencia de las comunicaciones del sistema.

En su discurso de apertura, He Tingbo explicó en detalle la aplicación de la Ley de Escala τ de HUAWEI a los smartphones y a la computación de IA. En los últimos seis años, HUAWEI ha diseñado y producido en masa 381 chips basados ​​en la Ley de Escala τ, que atienden a una amplia gama de industrias, sectores y mercados. Los chips Kirin, cuyo lanzamiento está previsto para otoño de 2026, serán los primeros en adoptar la arquitectura LogicFolding, lo que mejorará considerablemente su rendimiento. Para 2031, se espera que los chips de gama alta que HUAWEI diseña, basados ​​en la Ley de Escala τ, presenten una densidad de transistores equivalente a la de los procesos de 14 Å (1.4 nm).

De cara al futuro, He Tingbo señaló: “Creemos que la apertura y la colaboración son fundamentales para impulsar el progreso continuo en la industria de los semiconductores. Ninguna empresa puede encontrar por sí sola todas las respuestas en el camino de la evolución de los semiconductores. Con la Ley de Escala τ, esperamos trabajar estrechamente con científicos, ingenieros y socios de la industria de todo el mundo para impulsar el desarrollo sostenible de las industrias de semiconductores y electrónica».